本設備是我公司研發用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜。特別適合于高科技企業、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發。
主要技術參數：
1. 真空室：?220mm*H380mm；2. 最大可鍍工件直徑：60*60mm,配抽拉式樣品臺，樣品可旋轉；樣品臺配擋板；
3. 極限真空度：8*10-5Pa（分子泵系統）；4. 抽氣時間：大氣壓~6*10-4Pa小于30min（分子泵系統）；5. 蒸發源：可配備1~2組金屬或有機蒸發源；
6. 開啟方式：正面開門結構，便于換絲及裝料；7. 真空系統：分子泵+機械泵；
8. 水冷循環系統 0.5P；
9. 控制系統可選手動或觸摸屏自動控制。
系統主要配置說明
項目 | 規格及說明 | |
真 空 室 | 蒸發真空室 | DN220*380，尺寸根據設計要求適當調整，上蓋可開啟，側開門 |
分子泵 | 分子泵110L/S或150L/S | |
機械泵 | DVR16 旋片泵，兼起預抽泵和前級泵作用 | |
擋板閥 | DN25電磁擋板閥，預抽管道通斷 | |
截止閥 | 6mm雙卡套接口電動截止閥 | |
照明及烘烤裝置 | 選配 | |
各型法蘭及觀察窗 | DN16、35、63、100 | |
不銹鋼管路、管接頭 | 各種規格精密不銹鋼管、波紋管、管接頭 | |
真 空 測 量 與 進 氣 | 數顯復合真空計 | 5227復合真空計或進口全量程規管可選 |
金屬裸規 | ZJ52T，ZJ27 金屬接口 | |
管路及接頭 | 配混氣室 | |
截止閥 | 6mm雙卡套接口電動截止閥 | |
進氣等控制接口 | 手動或電控 | |
樣 品 架 | 轉動基片架 | 基片旋轉、基片架升降 |
升降裝置 | 升降手動調整 | |
基片加熱裝置 | ≤600℃ 加熱裝置選配 | |
溫控電源 | 日本島電溫控，PID控溫選配 | |
蒸 發 系 統 | 蒸發源 | 水冷蒸發源，可選1~2組 |
蒸發電源 | 8-200A | |
設備機架 | 一體式布局 | |
水氣路系統 | 含冷卻水機 | |
控制系統 | 標配手動，可選觸摸屏自動控制 | |
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