

該超高真空磁控濺射鍍膜機的基本參數(shù)如下:
l 鍍膜室極限真空:≤6×10-5Pa;
l 抽氣時間:30分鐘內(nèi)優(yōu)于8×10-4Pa;
l 真空室尺寸:300mm×300mm×H400mm,真空室采用不銹鋼加工而成,配玻璃觀察窗;
l 靶尺寸、數(shù)量:2只φ50mm永磁靶(一體式);
l 濺射電源:2臺500W數(shù)字式直流濺射電源;
l 壓力控制,配備薄膜規(guī)與電動蝶閥實現(xiàn)恒壓控制;
l 水平移動距離0~80mm,配隔離板避免運動過程中掉渣;
l 熱壓系統(tǒng):下基片加熱溫度:0~600℃連續(xù)可調(diào)。上板氣動控制下壓;
l 主機尺寸:長1060mm×寬600mm×高1600mm;(根據(jù)需要,尺寸會適當(dāng)調(diào)整)
l 氣體種類:2路質(zhì)量流量控制器,2路進氣;
0551-68859919