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濺射鍍膜系統(tǒng)

非標(biāo)磁控濺射系統(tǒng) 熱壓磁控濺射一體機

  • 該超高真空磁控濺射鍍膜機的基本參數(shù)如下:l 鍍膜室極限真空:610-5Pa;l 抽氣時間:30分鐘內(nèi)優(yōu)于810-4Pa;l 真空室尺寸:300mm300mmH400mm,真空室采用不銹鋼加工而成,配玻璃觀察窗;l 靶尺寸、數(shù)量:2只φ50mm永磁靶(一體式);l 濺射電源:2臺500W數(shù)字式直流濺射電源;l 壓力控制,配備薄膜規(guī)與電動蝶閥實現(xiàn)恒壓控制;l 水平移動距離0~80mm,配隔離板避免運動...
  • 產(chǎn)品詳情

該超高真空磁控濺射鍍膜機的基本參數(shù)如下:

l 鍍膜室極限真空:≤6×10-5Pa;

l 抽氣時間:30分鐘內(nèi)優(yōu)于8×10-4Pa;

l 真空室尺寸:300mm×300mm×H400mm,真空室采用不銹鋼加工而成,配玻璃觀察窗;

l 靶尺寸、數(shù)量:2只φ50mm永磁靶(一體式);

l 濺射電源:2臺500W數(shù)字式直流濺射電源;

l 壓力控制,配備薄膜規(guī)與電動蝶閥實現(xiàn)恒壓控制;

l 水平移動距離0~80mm,配隔離板避免運動過程中掉渣; 

l 熱壓系統(tǒng):下基片加熱溫度:0~600℃連續(xù)可調(diào)。上板氣動控制下壓;

l 主機尺寸:長1060mm×寬600mm×高1600mm;(根據(jù)需要,尺寸會適當(dāng)調(diào)整)

l 氣體種類:2路質(zhì)量流量控制器,2路進氣;


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