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濺射鍍膜系統(tǒng)

非標磁控濺射系統(tǒng) 大面積濺射鍍膜機

  • 該超高真空磁控濺射鍍膜機的基本參數(shù)如下:l 鍍膜室極限真空:310-5Pa;l 抽氣時間:30分鐘內(nèi)優(yōu)于810-4Pa;l 真空室尺寸:450mmH350mm,真空室采用不銹鋼加工而成,配玻璃觀察窗,側(cè)門可開啟;最大可鍍300300mm方片;l 靶尺寸、數(shù)量:2只70*350mm永磁靶。靶材尺寸:703505mm;l 靶基距可調(diào)(40~80mm);l 反濺清洗與偏壓:偏壓-800V,可滿足反濺清洗...
  • 產(chǎn)品詳情

該超高真空磁控濺射鍍膜機的基本參數(shù)如下:

l 鍍膜室極限真空:≤3×10-5Pa;

l 抽氣時間:30分鐘內(nèi)優(yōu)于8×10-4Pa;

l 真空室尺寸:450mm×H350mm,真空室采用不銹鋼加工而成,配玻璃觀察窗,側(cè)門可開啟;最大可鍍300×300mm方片;

l 靶尺寸、數(shù)量:2只70*350mm永磁靶。靶材尺寸:70×350×5mm;

l 靶基距可調(diào)(40~80mm);

l 反濺清洗與偏壓:偏壓-800V,可滿足反濺清洗;

l 主機尺寸:長1060mm×寬600mm×高1600mm;(根據(jù)需要,尺寸會適當調(diào)整)

l 氣體種類:工作氣體Ar+反應(yīng)氣體;


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