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真空等離子體裝置

等離子體清洗、刻蝕機

  • 等離子體清洗機由真空腔體及等離子電源、抽真空系統、充氣系統、控制系統等部分組成。工作 基本原理是在真空狀態下,等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進行 抽真空達到 0.02-0.03mbar 的真空度,再在等離子電源作用下,將氣體進行電離,形成等離子體(物 質第四態)。等離子電源提供能量使氣體電離成等離子態。等離子態顯著的特點是高均勻性輝光放電, 根據不同氣體發出從...
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    等離子體清洗機由真空腔體及等離子電源、抽真空系統、充氣系統、控制系統等部分組成。工作 基本原理是在真空狀態下,等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進行 抽真空達到 0.02-0.03mbar 的真空度,再在等離子電源作用下,將氣體進行電離,形成等離子體(物 質第四態)。等離子電源提供能量使氣體電離成等離子態。等離子態顯著的特點是高均勻性輝光放電, 根據不同氣體發出從藍色到深紫色的色彩可見光,材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發生作用,得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

 

    反應離子腐蝕技術是一種各向異性很強、選擇性高的干法腐蝕技術。它是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的,利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕,即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進化學反應,同時離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。


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